技术编号:31622650
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。用于旋涂碳平坦化的技术.本申请为年月日提交的国际申请号为pct/us/、发明名称为“用于旋涂碳平坦化的技术”的pct申请的分案申请,该pct申请进入中国国家阶段日期为年月日,国家申请号为.。技术领域.本发明涉及用于衬底处理的系统和方法,并且更具体地涉及用于旋涂碳(soc)平坦化的系统和方法。背景技术.本文中公开的是涉及使用旋涂碳(soc)材料的半导体图案化的方法和设备。为了实现高纵横比图案,通常使用多层堆叠。光致抗蚀...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。