技术编号：31695242
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本公开涉及一种基板处理装置和基板处理方法。背景技术.专利文献所记载的液处理装置具备喷嘴构件。喷嘴构件以非旋转状态设置于基板的下方。喷嘴构件在其上表面具有用于喷出处理液的处理液喷出喷嘴、以及用于喷出干燥气体的气体喷出喷嘴。处理液喷出喷嘴对基板的下表面轮番地供给药液和冲洗液。之后，在处理液喷出喷嘴喷出冲洗液的状态下，气体喷出喷嘴喷出干燥气体，形成冲洗液的雾。.现有技术文献.专利文献.专利文献：日本特开-号公报发明内容.发明要解决的问题.本公开的一个方式提供以下...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。