技术编号:3170850
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种在球形整流罩上制备非连续透明导电膜的方法,特别涉及一种球 形凹面上投影平行线图形的激光直写方法及其装置。背景技术整流罩就是一种比较深的盖,超半球形的盖就是视场范围超出180°的整流罩,半 球和超半球整流罩经常用作需要有大视场的电光传感器的光窗,这种光窗在透过光学观测 波段的同时也往往成为外界电磁干扰的主要通路。兼顾环境因素,在整流罩内表面(凹面) 上制备一种非连续的透明导电薄膜可以有效屏蔽电磁干扰,有时也可以同时起到除露(露 水)的效果(如深...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。