技术编号:31813738
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及半导体涂胶显影设备技术领域,尤其涉及一种集成式显影槽喷头及显影设备。背景技术.显影设备是集成电路生产过程中,将曝光后的涂胶硅片进行显影成型的设备。显影工艺会使用到显影液喷嘴和清洗液喷嘴。显影液喷嘴的作用是喷涂显影液,使被曝光过的光刻胶跟显影液中的化学物质进行化学反应,最终使曝光机曝光的图形显现出来;清洗液喷嘴作用是喷淋去离子水(diw),将显影后硅片上多余的显影液以及其和光刻胶化学反应后的废液清洗干净。.实际使用中,出于工艺需要,显影液喷嘴和清洗液喷嘴喷涂或喷淋药液的范围一...
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