技术编号：31848744
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。带电粒子束描绘装置.相关申请.本申请享受以日本专利申请－号(申请日：年月日)为基础申请的优先权。本申请通过参照该基础申请而包含基础申请的所有内容。技术领域.本发明涉及带电粒子束描绘装置。背景技术.伴随着lsi的高集成化，对半导体器件要求的电路线宽正逐年细微化。为了对半导体器件形成所希望的电路图案，采用了如下方法：使用缩小投影型曝光装置，将形成在石英上的高精度的原始图案(掩模，或者特别是在步进器、扫描仪中使用的原始图案也被称作掩模原版(reticle)。)...
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