技术编号:3196490
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明方式涉及一种通常的静电吸盘。背景技术在进行蚀刻、CVD(Chemical Vapor Deposition 化学气相沉积)、派射、离子注入、灰化、曝光、检查等的基板处理装置中,作为吸附保持被吸附物(半导体晶片、玻璃基板等)的单元使用静电吸盘。在此,当静电吸盘的载置面和被吸附物互相摩擦时有可能会产生颗粒。而且,当静电吸盘的载置面和被吸附物的接触面积变大时被吸附物的吸附脱离响应性有可能会变差。因此,公知有如下技术,通过在静电吸盘的载置面侧设置突起部而减小...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。