技术编号:3207947
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及靶材制备领域,尤其是钌及钌合金靶材的加工方法。背景技术钌及钌合金薄膜作为一种功能膜在磁记录存储和半导体等行业具有广泛的应用。比如,在机械硬盘驱动器中,当前主流的记录方式是垂直磁记录技术。该技术所应用的数据存储介质是一种多层膜结构,而钌及钌合金薄膜是该结构中一种很重要的中间层。此外,钌薄膜还被用于铁电随机存储中电容器的电极层和半导体集成电路设备中的铜基后端金属化系统中的粘合/种子层。这些钌及钌合金薄膜通常采用磁控溅射的方法通过相应成分的钌及钌合金靶...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。