技术编号：32111679
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本申请属于光通信技术领域，具体涉及一种基于光互联单元的光学组件及光芯片。背景技术.光量子计算等应用使用的集成量子光芯片需要更多的光量子比特数量，从而其光波导网络芯片也需要更大的尺寸。电子束光刻(ebl)通常用于科研方面制备较小尺寸的芯片，因为其耗时太长，不适宜用于较大网络芯片的工业制造。duv等光刻机由于采用曝光式图形制备方法，效率高于ebl，是产业界制造高端芯片时常用的图形制备手段。但是由于duv光刻机本身的局限，目前将其用在制备超大尺寸光波导网络芯片时还存在一些问题，例如难以在同一片晶...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。