技术编号:32294252
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本发明属于感光材料技术领域,具体涉及一种在-nm波长范围内高产酸的肟磺酸酯类光产酸剂、含有该光产酸剂的抗蚀剂组合物及其应用。背景技术.光产酸剂是化学增幅型光致抗蚀剂的关键组成之一,其结构和性能对光刻图像有较大影响。非离子i线光产酸剂主要是磺酸酯类。其中,肟磺酸酯类光产酸剂在半导体领域中用作光引发剂已被广泛知悉,如jpa、jpa、cnb、cna、cna等专利文献中公开了多种不同的肟磺酸酯光产...
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