技术编号：3238251
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种刻膜机，尤其涉及一种带吸尘系统的刻膜机。背景技术非晶硅太阳能电池生产流程涉及到底层电极、中间光伏效应层和表面欧姆接触电 极层的薄膜沉积以及各层的刻划。激光刻划技术相比传统的掩模法具有更高的生产效率以 及稳定的产品质量，已经较好地应用于太阳能电池的制造工艺流程中。然而，在激光刻划非 晶硅电池的过程中，容易产生大量微小的粉尘，并且大部分的粉尘不能到达除尘系统，除尘 系统除尘效率低，使得产生的粉尘污染空气，给操作人员带来不便，也会污染工作台或者...
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