技术编号:3243865
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种透明导电薄膜的溅射用的ITO靶材,特别是采用三氧化二铟(In2O3)或铟锡氧化物(SnO2-In2O3)为原料做成的铟靶材及其制造方法。背景技术 ITO靶材一般采用三氧化二铟(In2O3)或铟锡氧化物(SnO2-In2O3)为原料,ITO薄膜由于具有透明和导电的双重优点,是众多行业基本材料之一,因此被广泛应用于太阳能电池、液晶显示器和等离子显示器等领域,在LCD、防霜、防雾玻璃、防红外隔热表层方面是必不可少的材料。近年来,伴随着高档显示器件的...
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