技术编号:3244163
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及粉末冶金技术,同时属于溅射镀膜靶材生产,特别是一种 ito溅射靶材的制备方法。 背景技术ito耙材是磁控溅射制备no透明导电薄膜的原料。这种透明导电薄膜对可见光透过率〉85%,红外光反射率达90%,且导电性好,有优良的化学稳定性、热稳 定性和刻蚀性,是一种用途十分广泛的透明导电薄膜材料,广泛应用于平板显示 器、防辐射玻璃、太阳能电池板等领域。高性能的ito靶材具有高纯度、高密度及低电阻率。靶材纯度低,在溅射过程 中,会发生异常放电,导致靶材表面产...
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