技术编号:3244902
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种物理气相沉积系统,特别是涉及一种藉由均匀的磁场 分布来提升等离子体轰击均匀度,而可有效提升靶材利用率的物理气相沉 积系统。背景技术一般来说, 一物理气相沉积系统通常会具有一沉积反应室,其可同时容置一靶材(target)及一晶圓,在此,靶材通常是位于晶圓的上方。就运作 上而言,在沉积反应室内会产生等离子体(等离子体即电浆,以下均称为等 离子体)来轰击靶材(例如,铝材)的表面,以使得靶材分解成微粒。接着,受 到等离子体轰击而从靶材上分解出的微...
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