技术编号:3245423
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。可获得均匀电场的大面积VHF-PECVD反应室背馈入式平行板功率电极本发明涉及硅薄膜太阳电池和平板显示领域中的薄膜晶体管矩阵, 特别是一种等离子体增强化学气相沉积或等离子体刻蚀反应室的可获得均匀电场 的大面积VHF-PECVD反应室的电极设计。背景技术近年来,已有报道应用甚高频(VHF)技术到PECVD的方法可以增加薄膜的沉积速 率,并且研究结果表明VHF-PECVD完全适合微晶硅薄膜和非晶硅薄膜的高速沉积。 然而,VHF-PECVD的应用研究通常是在小尺...
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