技术编号:3245697
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及具有喷嘴构造的蒸发源以及使用该蒸发源的真空蒸镀装 置,所述喷嘴构造适于在被蒸镀基板上连续地蒸镀形成薄膜。背景技术真空蒸镀装置如公知的那样,在真空容器内配置蒸镀材料和被蒸镀 基板,并加热熔融蒸镀材料而令其借助蒸发或者升华而气化,并且将气 化后的蒸镀材料堆积在被蒸镀基板的表面上而形成薄膜。作为上述真空 蒸镀装置的蒸镀材料的加热方法,提出有加热器加热、高频加热、辐射 加热等,虽然各自具有各自的特质,但一般多使用外加热坩埚法,即借 助外部加热器加热收纳有...
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