技术编号:3245876
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于形成软磁性膜的Co—Fe—Zr系合金溅射靶材及 其制造方法。背景技术近年来,磁记录技术取得了显著的进步,由于驱动器的小型化和大容量化,针对磁记录媒体的高密度化的研究得,u大力发展。然而,在采用现 在世界上广泛普及的面内磁记录方式的磁记录媒体来同时实现驱动器的小型化和大容量化时,lbit的记录所用的领域变小,与周围的磁区抵消后 会导致磁力丧失。因此,作为进一步实现记录高密度化的方式,开发出了 垂直磁记录方式,现在己经进入实用化阶段。所谓垂直...
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