技术编号:3246177
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。用于高真空、高流量起泡器器皿的防溅物和进口扩散器 相关申请的交叉参考本申请要求2006年12月15日提交的US临时专利申请60/875,200 和2007年3月27日提交的60/908,376的优先权。背景技术电子元件制作工业使用化学品前体容器,其将液体化学品转化为化 学品蒸汽以输送到电子元件制作反应器,即工具,以进行化学气相沉积 ("CVD" )。 CVD是用于在诸如集成电路或计算机芯片的电子元件制 作构造中形成层、膜或其他沉积物的有利的技术。由于大量化...
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