技术编号:3249078
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种特别打算用于混合模式的涂覆过程的涂覆设备,其中,物理气相沉积(PVD)过程和化学气相沉积(CVD)过程交替或 同时实施。在该设备中,可转动的磁控管用作濺射材料源。该涂覆设 备进一步配备有管形开闭器,该管形开闭器能够转动地移动以便覆盖 或露出磁控管的溅射区域。背景技术在光学的、电学的、化学的、磁性的或机械的功能覆层的沉积领 域中,物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)经常被使用。物 理气相沉积涉及这样的过程,其中,通过用涂覆原子对基体弹...
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