技术编号:3249378
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及等离子体成膜装置,更具体地,涉及偏转等离子体束 以将它引到蒸发材料上的类型的等离子体成膜装置。背景技术近年来,用于诸如LCD (液晶显示器)、PDP(等离子体显示面 板)等的大屏幕显示器件的大面积基板上的诸如透明导电膜ITO、前 面板电极保护层(例如MgO或氧化镁)等的薄膜的产量增大。随着 对高分辨率面板的需求增大,离子镀(ion plating)方法作为代替电 子束(EB)成膜方法或溅射方法的成膜方法吸引了注意。离子镀方法 不仅能够实现高的成膜...
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