技术编号:3249432
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及可以稳定且以高的抛光效率进行透镜、反射镜等光学材料、及硅晶片、硬盘用玻璃衬底、铝衬底及通常的金属抛光加工等要求高度表面平坦性的材料的平坦化加工的抛光垫。本发明的抛光垫特别适用于对硅晶片及其上形成了氧化物层、金属层等的器件在进一步层压和形成这些氧化物层及金属层之前进行平坦化的工序。背景技术作为要求高度表面平坦性的代表材料,可以列举出制造半导体集成电路(IC、 LSI)的被称为硅晶片的单晶硅的圆盘。硅晶片在IC、 LSI等的制造工序中,为了形成电路形...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。