技术编号：3249539
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及在对透镜、反射镜等光学材料和硅晶片、硬盘用的玻 璃衬底、铝衬底等的表面进行抛光时使用的抛光垫(粗抛光用或精抛 光用)以及其制造方法。本发明的抛光垫特别适合用作精加工用抛光 垫。背景技术通常，硅晶片等半导体晶片、透镜以及玻璃衬底等的镜面抛光中 具有主要为了调节平坦度及面内均匀度的粗抛光、和主要为了改善 表面粗糙度及除去划痕的精抛光。上述精抛光，通常在能旋转的平台上粘贴由软质的发泡聚氨酯形 成的绒面革制的人工皮革，在其上供给碱性水溶液中含有胶体二氧化...
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