技术编号:3249787
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种根据权利要求1概念的用于低蒸气压母体,特别是用于CVD-涂层设备的气体供给装置。在现代的CVD-涂层设备中(化学气相沉积),以特定的涂层涂覆在构件或基质上,其中也可按顺序由多个不同的薄层所构成的涂层物,以满足特性上的高要求。为达到这种特性,对沉积质量则又提出很高的要求,例如作为沉积参数的沉积率,对涂层的质量有很大的影响,在CVD-沉积法中,沉积率由气状母体的分压决定,因此分压必须非常准确地控制,不允许遭受波动。背景技术 对涂覆使用了特定的涂层...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。