技术编号:3251012
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明有关一种,特别是应用沉积方式(deposition mode)将反应室中微粒的数量控制在一定范围的方法。背景技术 半导体制程的要求是必须在极度干净的环境下进行。在半导体制程中,反应的生成物除了会沉积在芯片上外,同时也会附着在反应室的内壁而变成制程中的污染物。在半导体制程进行中,污染物会逐渐沉积进而累积在反应室的内壁和内部的零件中。时间一久,若疏于清洁反应室则会造成不可靠的制程和缺陷产品的出现。缺乏经常性的清洁程序,累积在反应室内壁的污染物会迁移到底材...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。