技术编号:3251303
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明旨在提供一种减少材料损失且制出高密度的,尤适于应用在液晶屏幕或类似结构的制造。背景技术 由氧化铟锡制成的薄膜具有高导电性,以及对可见光具高透光率,和对红外线具高反射率,因此被广泛地运用于太阳能电池的透明电极、平板显示器的驱动装置和电磁波防护膜等电子光学、光电装置上,尤适于液晶显示器(LCD)的透明导电电极材料。而氧化铟锡薄膜的制法有真空蒸镀法、磁控溅镀法、化学气相沉积法以及浸渍涂布法等数种方法,其中溅镀法较适用于大面积的基板,且其制造工艺温度较低,可...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。