技术编号:3251381
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明申请一般地涉及溅射靶,更具体地,本发明申请涉及生产完好坯料(sound billet stocks)的凝固方法,以用于制造具有增强通过通量(pass through flux)(“PTF”)的无缺陷、化学均匀的溅射靶。背景技术DC磁控溅射工艺广泛用于各种领域,用以在基底上提供具有精确控制的厚度和窄的原子级别误差(atomic fraction tolerances)内的薄膜材料沉积,例如涂覆半导体和/或在磁性记录介质的表面形成膜层。在一种普通的结构中...
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