技术编号：3251407
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及催化剂增强的化学汽相淀积(CECVD)设备及利用该设备的淀积方法，并且更具体地说，涉及为防止催化剂丝(catalyst wire)因热变形导致松垂而向催化剂丝施加张力、并为防止生成异物而使用辅助气体的CECVD设备及利用该设备的淀积方法。背景技术 在半导体器件或显示器件的制造中，化学汽相淀积(CVD)方法业已广泛地用作在基片上形成预定薄膜的工艺方法之一。化学汽相淀积工艺包括通过分解和/或激活等离子体中的源气体以生长膜的等离子体增强化学汽相淀积(P...
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