技术编号:3251545
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及真空处理装置,特别是涉及对溅射装置的改进。现有技术图8中的101表示现有技术中的溅射装置。这种真空处理装置101具有真空槽111。真空槽111上设置有排气口118。排气口118的结构是连接到图中未示出的真空排气系统上,当驱动真空排气系统时,能对排气口118内部进行真空排出。真空槽111上设置有气体导入口117,气体导入口117的结构是连接到图中未示出的导气系统上,并能从气体导入口117把空气导入真空槽111内部。在真空槽111的天井上配置后板11...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。