技术编号:3252042
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及微电子,尤其涉及。 背景技术在硅片的刻蚀工艺过程中,需要使用平台传送硅片,使用反应腔室进行刻蚀工艺,在 反应腔室中进行刻蚀工艺时,反应腔室内部会存在很多颗粒,这些颗粒会减少平台和反应 腔室的使用寿命,并且影响平台和反应腔室的使用。为了去除反应腔室中的颗粒,可以采用通过净化管路向反应腔室中充氮气的方法,一 方面向反应腔室中充氮气,另一方面从反应腔室中抽气,使反应腔室中维持一定的氮气压 力,这样,反应腔室中的颗粒就不会附着在反应腔室内壁,会随着氮气被...
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