技术编号:3252512
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及沉积装置,尤其涉及一种用于化学气相沉积装置的保温器。技术背景化学气相沉积(CVD)装置以其可制造薄膜均匀,覆盖性好特点成为半 导体器件制造工艺中的常用制膜技术之一。申请号为01141183的中国专利申 请给出了采用CVD装置的制膜技术,但是未公开CVD装置的真空腔内部结构。 在化学气相沉积装置的真空腔是化学气相沉积装置的最为重要的部分,晶圆 放置于真空腔中进行沉积薄膜,在真空腔中还设置有保温器,用于对真空腔 进行保温。参照附图1A给出现有技术的化...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。