技术编号:3252576
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种超精密抛光技术,特别是进行平面和平缓变化曲面的超精密 抛光的技术。背景技术目前传统的抛光加工方法容易造成表面损伤,加工一致性差,这些问题随着 材料尺寸的不断增大,加工要求的不断提高显得更加突出。当表面粗糙度和波纹 度到达纳米、亚纳米尺度时,任何非均匀的表面材料去除作用都可能导致较大的 表面波动,任何一个异常颗粒就可能造成较大的表面缺陷导致加工器件报废。其 原因就在于传统的抛光加工方法对磨粒的尺寸变化十分敏感。即使没有大的异常 颗粒,磨料本身不...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。