技术编号:3252615
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种操作真空沉积装置(vacuum deposition apparatus)的方法,其中在真空室内,利用加热装置加热来蒸发蒸发材料,从而使该蒸发材料沉积,并在由基材输送装置连续输送的长条状基材(long strip basematerial)的表面上形成薄膜,本发明还涉及真空沉积装置。背景技术 通常使用一种真空沉积装置,其中在真空室内,利用加热装置加热来蒸发蒸发材料,从而使该蒸发材料沉积,并在基材的表面上形成薄膜。此外,已经研究了一种真空沉积装...
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