技术编号：3252802
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种还原罐的布置方法及其配套窑体，特别是涉及一种还原罐的多层布置方 法及其配套窑体。 背景技术真空金属冶炼时，是将还原罐放置在温度很高的还原炉窑体内进行还原反应的，现有技 术是在原炉窑体内构筑支撑体，还原罐的一端由窑体前墙支撑，另一端由设在窑体内的支撑 体支撑，水平放置于窑体内，结晶器处在窑体外，由结晶器口端向还原罐内送料，另一端为 封闭。存在的不足是由于在窑内设置支撑方式的限制，窑体内构筑的支撑体不便实现多层 摆放还原罐，只能摆放一层还原罐，使...
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