技术编号：3255376
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种电弧沉积系统，确切地说，涉及从此类电弧沉积系统中过滤粒子从而改善涂层质量的电弧沉积系统及其过滤器。背景技术在过去20年中，阴极电弧沉积已成为高度电离等离子体的可靠来源，用于使已反应以及未反应的涂层沉积，所述涂层由诸如锆、钛、铬、铝、铜及其合金等导电靶材料构成。电弧蒸发工艺中产生的高度电离等离子体及相关电子束还用于表面处理技术，例如离子溅射、蚀刻、注入和扩散工艺。该电弧蒸发工艺的不良副作用在于，生成宏观上较大的粒子(“宏观粒子”)，这些粒子倾向...
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