技术编号:3257043
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及化学气相沉积功能材料,具体涉及一种多炬等离子体喷射化学气相沉积法沉积超硬膜的方法及装置。背景技术在金刚石及其他超硬膜(立方氮化硼、氮化碳等)的沉积方法中,化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition简称CVD)是一种重要的方法。CVD技术主要包含热丝化学气相沉积法(HFCVD)、等离子体喷射化学气相沉积(PJCVD)及微波化学气相沉积法(MPCVD)等。HFCVD沉积超硬膜面积较大,沉积速率较低,膜质量较低,一般限于工具涂层或...
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