技术编号:3257110
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于化学气相沉积的气体分布装置,特别涉及一种用于金属有机化学气相沉积反应器的斜入式气体喷淋头。背景技术MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition)设备,即金属有机物化学气相沉积设备,其在半导体产业尤其是在LED产业中具有不可替代性的作用,是特别关键的设备。该设备集计算流体力学、热力传导、系统集成控制、化合物生长等各学科于一体,是一种高科技、新技术高度集中的设备;是突破产业发展瓶颈,提高产业水平...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。