技术编号:3258592
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种制备新材料的装置,特别是涉及一种连续制备石墨烯、金属硫族化合物、硅烯、锗烯、氮化硼等新型二维纳米薄膜的装置。背景技术石墨烯具有卓越的二维电学、光学、热学、力学性能以及化学稳定性,石墨烯在超快光电子器件、洁净能源、传感器等方面具有广泛的应用前景。电子在石墨烯中传输速度是硅的150倍,IBM等著名公司已经制备速度可达太赫兹的超快速光电子器件,美国加州大学利用石墨烯研制成光学调制解调器,有望将网速提高I万倍;全球每年半导体晶硅的需求量在2500吨左...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。