技术编号:3258962
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种金刚石膜生长装置,尤其涉及气体内循环型热丝CVD金刚石膜生长装置。背景技术由于具有良好的光学、力学、电学和化学稳定等特性,金刚石涂层在工业以及日常生活领域有着广泛的应用。最初的金刚石合成主 要是高温高压法,虽然有制备条件苛刻、合成质量不高、成本较大等诸多劣势,但是其仍然是制备金刚石的首选方法。在过去的二十年间,低温低压化学气相沉积金刚石膜的研究,倍受世界各国研究者的关注。目前,常用的制备方法主要有微波CVD、热丝CVD、直流电弧等离子体、燃烧...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。