技术编号:3261835
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。背景技术对于存储器或硬磁盘的提高的存储容量的要求以及存储器或硬磁盘的小型化趋 势(这是由于在计算机设备中要求更小的硬驱动器)仍旧强调存储器或硬磁盘制造方法的 重要性,所述制造方法包括为了确保最高性能而对这样的磁盘进行的平坦化或抛光。虽然 存在若干种用于和半导体器件制造一起使用的化学机械抛光(CMP)组合物和方法,但常规 的CMP方法或市售的CMP组合物几乎没有非常适于存储器或硬磁盘的平坦化或抛光的。随着对提高的存储容量的要求提高,对用于这样的存储器或硬磁盘...
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