技术编号:3263153
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及,尤其是一种通过全流程工艺控制,降低缺陷密度,提高激光薄膜损伤阈值的制备方法,属于薄膜光学。背景技术激光薄膜是高功率激光系统中的关键元件,它的性能优劣很大程度上决定了激光的输出性能。激光薄膜也是高功率激光系统中的薄弱环节,其损伤阈值的高低直接决定了激光输出的强弱,并危及强激光系统的稳定运行。改进激光薄膜的性能,提高激光薄膜的损伤阈值一直是激光和薄膜领域内的重要内容。薄膜损伤阈值的高低是众多因素共同作用的结果,但相比较而言,杂质缺陷吸收是比较关键的...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。