技术编号：3263608
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种具有沉积物清除装置的气体处理装置，且特别涉及一种可迅速且有效地维持气体处理室内部无阻塞的气体处理装置。背景技术 在半导体工艺中，某些反应设备如蚀刻设备或化学气相沉积设备等所产生的生成物在排放前需要经过再处理。以蚀刻设备为例，与之连接的附属设备例如气体处理装置是用来处理蚀刻过程所产生的废气。而该气体处理装置在使用一段时间后会产生沉积物，因此需要进行清洁以免沉积物的累积使气体处理装置内部阻塞。请参照图1，其所描绘的是一种传统的蚀刻设备的气体处理装...
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