技术编号:3264460
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种多层材料层沉积的方法,及可以适用于该方法的化学气相沉积(CVD)设备,特别是一种有机金属化学气相沉积(MOCVD)设备。背景技术现阶段,由于发光二极管(Light Emitting Diode,LED)的各种优势使得其得到了广泛的应用。然而随之而来的就是业内对LED的性能要求越发的苛刻,而LED的制造又是一个需要进行多次材料层沉积的过程,因此,如何保证材料层沉积后能够发挥出应有的作用,将对LED性能的改进有着重大的影响。现有技术中,对各种材料...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。