技术编号:3265243
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种真空镀膜技术,尤指一种连续真空镀膜装置。技术背景一般的真空镀膜,是在一个固定的镀膜空间进行,镀件每镀一层膜,需要从镀膜腔体取出,再进行第二次镀膜,工作效率低,成本高,污染环境严重。实用新型内容为解决前述存在的问题,本实用新型提供一种连续真空镀膜装置,该装置由若干个镀膜腔体串接节联构成,每个镀膜腔体配置有离子束清洗源、和/或过滤阴极真空镀膜膜源、和/或磁控溅射源和分子真空泵,镀膜腔体之间用插板阀关闭密封或开启,节联的镀膜腔体,两头各有一个装...
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