技术编号：3266186
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。氧化铁薄膜是计算机硬件外部设备中硬磁盘存贮器的主要介质，而反应溅射法是此薄膜制备的主要方法。目前主要的技术如下 现有技术所制备的氧化铁薄膜存在两个主要缺点，一个是磁性较差，另一个是工艺稳定性较差，为此该发明在溅射过程中加入水蒸汽的方法，而使得上述问题迎刃而解了。在本发明中应用纯铁靶(99.0%-99.9%纯度)或纯铁加钴的混合靶经一步溅射时加入水蒸汽而直接生成四氧化三铁薄膜，再经热处理就可生成最终产物γ-Fe2O3，且具有极优良的性能，其过程如下装水蒸汽的...
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