技术编号：3266545
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及真空镀膜领域，尤其是真空镀膜中，采用离子轰击基材进行基材改性和清洗的机构，具体地说是一种真空镀膜用离子轰击板机构。背景技术目前，在真空镀膜领域，国内外一般采用吹风、粘尘的方式对基材进行清洗，然后采用喷涂或浸涂的方式对基材进行表面改性。这种大气环境下的化学改性方法，容易对基材产生表面缺陷，而且污染环境。在真空镀膜工艺中一般没有采用过阳极离子板的设备和机构，当基材运行速度较快的情况下，镀膜时，由于溅射能量的有限，容易造成膜层和基材的附着力不是太好...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。