技术编号：3271390
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种用于异质结薄膜沉积系统组态，此类设备可广泛应用于任何需要于真空下进行加工的制程，例如太阳能硅片镀膜加工。背景技术异质结的真空镀膜设备，由于制程需要经由化学气象沉积设备沉积非晶硅薄膜，之后再经由溅镀设备溅镀导电薄膜，由于两种薄膜的沉积属于不同种类的设备，因此皆采用分布式直线真空镀膜设备，然而硅片在一般环境容易遭受污染进而影响后续的效率；若设置大范围的无尘环境，虽然可克服此一问题，但整体设置成本过高，无法达到降低成本的要求，同时，设置面积因直...
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