技术编号:3272205
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属磁控溅射镀膜设备,涉及一种改型可调式真空磁控溅射阳极罩。背景技术ITO导电玻璃生产中,ITO膜层沉积一般采用物理气象沉积,属于真空磁控溅射。在磁控溅射设备中,靶材上方置有阳极罩,用来控制有效溅射面积。在制备过程中,衬底相对于靶材做横向运动,因此在一定角度内,相同功率下有效溅射面积越大等效的沉积速率相应越大。ITO膜层方阻与沉积膜层厚度有密切关系。在一定程度上ITO膜层厚度与其方阻大小成反比,即膜层厚度大的相应方阻偏小,因此可通过改变阳极罩上溅射...
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