技术编号：3272323
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及半导体制造，尤其涉及一种立式化学气相沉积装置。技术背景 随着半导体工程向大尺寸方向发展，大面积镀膜设备得到广泛的应用。其中，在太阳能电池领域，以玻璃为基板的薄膜太阳能电池，由于采用整体内部互联技术，而具有有效发电面积率大的优势，从而备受青睐。而立式等离子体化学气相沉积系统(PECVD)，作为一种高产能的薄膜沉积设备，在薄膜太阳能电池中有着广泛的应用。相较于卧式等离子体化学气相沉积系统，立式等离子体化学气相沉积系统具有产能高的特点，但是，利用该...
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