技术编号:3273420
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。一种防止气体反冲的装置以及金属有机化学气相沉积设备[0001]本实用新型涉及一种金属有机化学气相沉积(MOCVD)设备,具体地,涉及一种可应用于该MOCVD设备的防止气体反冲的装置。背景技术[0002]在目前的气相沉积设备,如金属有机化学气相沉积(Metal-organic Chemical Vapor Deposition, MOCVD)设备中,由于反应过程不充分导致MOCVD设备的尾气端会产生大量的颗粒等反应副产物,对于MOCVD设备而言,反应腔中腔体...
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