技术编号:3273521
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属等离子体聚合,特别是涉及一种用于大气压等离子体聚合的装置。背景技术一般用于材料处理的等离子体可通过气体放电产生,但多数等离子体都是在低气压下进行,如低气压辉光放电等。到目前为止低气压辉光放电等离子体已经得到较好研究并已广泛应用于材料加工领域,这与其具有明显的优点是分不开的,比如这种放电有比较低的击穿电压,容易实现稳定放电,还可以在较大尺度内实现均匀以及相对高的活性粒子浓度等。但另一方面由于低气压放电离不开真空系统,而且代价昂贵。介质阻挡放电通常...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。