技术编号:3274131
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种材料加工设备,特别是一种高精度双旋转摆动重力式平面研磨抛光机。背景技术市场销售的平面重力式研磨抛光机,其工作原理是磨抛盘旋转时,由于盘面的线速度靠盘心低,靠盘外径高,并与载料块摩擦所致载料块旋转。但假如载料块的被磨抛材料粗糙度大于40微米时,载料块与盘的摩擦力小于载料块的重力,导致载料块不旋转,造成被磨抛材料向一边倾斜磨抛而破坏被磨抛材料的平行度,这是材料加工效果所不能接受的。为了防止产生这一结果,往往对上道工序切割提出较高要求,即切割片...
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